Юный техник 1962-09, страница 35

СИ/VlAHCKAQ УЛ.,

rEHEFAm

УРОВЕНЬ ПОЛА ПОДВАЛА

ФУНДАМЕНТ

о.- •■

Л

ИНЬЕКТО^

N^OnSiQCaQmHp^

- nSi0₂(m i)HP<a(OH);2NaC.t